光刻技术走进“死胡同”:这款新的EUV源能否来波助攻?【亚博取款心丈秒到账】

发布者: 发布时间:2021-05-31
本文摘要:极紫外线光刻技术,沦落潜在性的摩尔定律的救世早就很幸了。

极紫外线光刻技术,沦落潜在性的摩尔定律的救世早就很幸了。十几年前,路线地图回绝EUV于二零一一年损毁。直至上年它才运行。

EUV源已超出半导体材料生产制造需要的200瓦级。殊不知,裸露的光致抗蚀剂的缺少允许了当今7纳米连接点的生产量,而且将来的5和3纳米连接点将应对更高的难题。

如今,根据最技术设备激光器的新式试验室EUV源为开发者获得了高些的时间与空间屏幕分辨率,便于她们讲解并解决困难这种难题。将光刻技术移到EUV股票波段意味著原材料和灯源都再次出现了前所未有的巨大改变。

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新的13.5纳米EUV等离子技术源替代了193纳米的紫外线激光器。伴随着光波长扩大,光子动能降低,因而来源于新的激光器驱动器的等离子技术EUV源的每一个光子装车的动能是来源于原来激光器源的光子的14倍。更高效率能量的光子务必新的光刻技术原材料,这是一个现阶段仍在科学研究中的具有趣味性的有机化学难题。新的产品研发的光刻技术也许不会有任意缺少,称之为“任意打印机故障”。

这个问题早就沦落EUV光刻技术的主要难题,丹麦IMEC探索原材料首席科学家JohnPetersen讲到。“大家务必了解已经再次出现的事儿的实际物理性质,”IMEC原材料和剖析工作组负责人PaulvanderHeide讲到。因此,该企业与位于科罗拉多州博尔德的KMLabs协作,在丹麦建立了一个高像素的EUV电子光学和非同脉冲试验室。

彼得森和别人在2月25日至28日在圣何塞举行的SPIE高級光刻技术大会上描述了该设备。相片:KMLabsKMLabs作为极紫外线光学显微镜的桌面上古志谐波电流源由KMLabs创设的系统软件根据将来源于红外线激光器的大功率脉冲讨论到汽体中造成EUV脉冲,以造成激光器的古志谐波电流。


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